日本Nikon ECLIPSE MA200為新一代產(chǎn)品，是EPIPHOT TME300/200型金相顯微鏡的后繼機(jī)種，支持明場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分干涉、熒光、簡(jiǎn)易偏光等觀察方式，采用尼康目前的CFI60光學(xué)系統(tǒng)，比以往CFI45的光學(xué)系統(tǒng)具有更高對(duì)比度。
◆倍率：25×-1500× （明暗場(chǎng)可以選擇）
◆配備了多樣的分格板及單位標(biāo)尺更易于分辯不同材質(zhì)
◆可以選配專(zhuān)業(yè)偏光（Polarizer）

ECLIPSE MA200為新一代產(chǎn)品，是EPIPHOT TME300/200型金相顯微鏡的后繼機(jī)種，支持明場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分干涉、熒光、簡(jiǎn)易偏光等觀察方式，具有結(jié)構(gòu)緊湊、操作方便、照明均勻、成象清晰、節(jié)能省電、堅(jiān)固耐用等特點(diǎn)。

操作方便經(jīng)常需要操作的部位，都集中在靠近觀察者的位置，即顯微鏡的前面。如：視場(chǎng)光闌、孔徑光闌、起偏器、檢偏器、檢板插拔以及明暗場(chǎng)切換等。

結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、抗振、堅(jiān)固耐用箱形結(jié)構(gòu)，堅(jiān)固而耐用；與TME300相比，占地面積更小，可節(jié)約大約1/3的空間。

光學(xué)性能高、照明均勻、節(jié)能省電采用尼康*的CFI60光學(xué)系統(tǒng)，不僅可以得到對(duì)比度高的、清晰的明視場(chǎng)圖象，還可以得到亮度為過(guò)去的3倍的暗視場(chǎng)圖象；新開(kāi)發(fā)了1倍與40倍物鏡；目鏡視場(chǎng)數(shù)達(dá)25mm，與新開(kāi)發(fā)的1倍物鏡相結(jié)合，直徑25mm的樣品也可以全部看一次性地全部看見(jiàn)；照明均勻、成象清晰；新開(kāi)發(fā)的12V50W鹵素?zé)粽彰鳎湔彰髁炼?可以媲美過(guò)去的12V100W鹵素?zé)粽彰?，且電力可以?jié)省一半。

顯微攝影及圖象處理通過(guò)選裝尼康的DS系列數(shù)碼相機(jī)，可以進(jìn)行顯微攝影；所拍攝到的顯微圖片可以通過(guò)兩種途徑進(jìn)行觀察及后續(xù)處理，分別為：1）DS-L2型獨(dú)立顯示控制器（圖象數(shù)據(jù)可以保存到U盤(pán)），DS-L2　2）DS-U2型電腦連接控制器，后者需要配合NIS Elements軟件一起使用。DS-U2利用NIS Elements軟件中的功能，可以實(shí)現(xiàn)顯微圖象的無(wú)縫拼節(jié)；利用NIS Elements軟件中的功能，可以進(jìn)行材料分析，如晶粒度分析、球墨鑄鐵的石墨球化率分析等。

詳細(xì)參數(shù)