科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 冠乾科技（上海）有限公司
品牌
型號
所在地 上海市
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時間 2019/10/28 17:23:57
訪問次數(shù) 699

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特價說明：

促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36型號：
Nano36

品牌：
科特萊思科

產(chǎn)地：
美國

濺射氣體：
氮?dú)獾?br>
樣品臺尺寸：
300*300

控制方式：
自動

樣品倉尺寸：
400*400

靶材尺寸：
300*300

靶材材質(zhì)：
鎢靶等

詳細(xì)信息在線詢價

LOAD LOCK Chamber (option)

LOAD LOCK預(yù)真空進(jìn)樣室（可選）

Chamber with front open door

前開門蒸發(fā)腔體

Cryopump and dry pump

冷凝泵和干泵

Multiple thermal evaporation sources or OLED sources

多個熱阻蒸發(fā)源或OLED低溫蒸發(fā)源

Max. 6” substrate

6”基片

Substrate rotation

基片旋轉(zhuǎn)

Substrate bias (option)

基片偏壓（可選）

Ion source for substrate cleaning (option)

離子源清洗基片（可選）

Substrate heating to 1000C (option)

基片加熱1000度(可選)

Crystal rate monitor and film thickness control

晶振沉積速率及膜厚控制

Manual or automatic system control

系統(tǒng)手動或自動控制

For deposition of metal, semiconductor and insulation materials

可沉積金屬、半導(dǎo)體和絕緣材料

For deposition of multi-layer or alloy film

可沉積多層膜及合金薄膜

科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36型號：	Nano36
品牌：	科特萊思科	產(chǎn)地：	美國

濺射氣體：	氮?dú)獾?/p>	樣品臺尺寸：	300*300
控制方式：	自動	樣品倉尺寸：	400*400
靶材尺寸：	300*300	靶材材質(zhì)：	鎢靶等
		儀器種類：	進(jìn)口離子濺射儀