應(yīng)用領(lǐng)域：冶金、鑄造、機(jī)械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。
檢測(cè)基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。
技術(shù)參數(shù)：
光學(xué)系統(tǒng)：帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)；
波長(zhǎng)范圍：170-580nm
焦距：400mm
探測(cè)器：高性能CCD陣列
光源類型：數(shù)字光源，高能預(yù)燃技術(shù)（HEPS）
放電頻率：100-1000Hz
放電電流：400A
工作電源：220VAC 50/60Hz
儀器尺寸：720*860*500mm
儀器重量：約100kg（不含真空系統(tǒng)）
檢測(cè)時(shí)間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右
電極：鎢材噴射電極
分析間隙：真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)
技術(shù)特點(diǎn)：
1.高性能光學(xué)系統(tǒng)
2.自動(dòng)光路校準(zhǔn)
3.單板式透鏡設(shè)計(jì)
4.真空室一體化
5.真空防返油技術(shù)
6.開放式激發(fā)臺(tái)
7.噴射電極技術(shù)
8.集成氣路模塊
9.全數(shù)字化激發(fā)光源
10.高速數(shù)據(jù)采集
11.以太數(shù)據(jù)傳輸
12.預(yù)制工作曲線
13.分析速度快捷
14.多基體分析
15.軟件多國(guó)語(yǔ)言
光學(xué)系統(tǒng)
帕型-龍格結(jié)構(gòu)的全譜光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍（130～850）nm
多個(gè)高性能CCD探測(cè)器
一體化光學(xué)室加工成型，動(dòng)態(tài)羅檔園安裝，耐環(huán)境溫度變化
真空光室設(shè)計(jì)，保證C、S、P、N都能達(dá)到
光室恒溫控制，恒溫溫度為35℃
直射式光學(xué)技術(shù)及透鏡MgF2材料，保證C、S、P、N紫外波長(zhǎng)的能量
樣品激發(fā)臺(tái)
集成氣路、噴射電極技術(shù)；
優(yōu)化的氬氣氣路設(shè)計(jì)保證激發(fā)臺(tái)的有效冷卻和激發(fā)過(guò)程中產(chǎn)生的金屬粉塵有效進(jìn)入過(guò)濾器；使樣品激發(fā)更加穩(wěn)定，并大大減少了人體對(duì)金屬粉塵的攝入，有利于保護(hù)操作人員的健康；
更小的激發(fā)空間，使氬氣消耗更??；
便于使用的樣品夾具
具有電極自吹掃功能，使電極使用壽命更長(zhǎng)、清潔電極更加容易
13mm的激發(fā)孔徑更利于樣品分析
開放式樣品激發(fā)臺(tái)可適應(yīng)各種大小、更多形狀樣品的分析（含線材）；
單反式透鏡裝置設(shè)計(jì)，一般人員都能方便對(duì)激發(fā)臺(tái)進(jìn)行維護(hù)和透鏡的清洗
激發(fā)光源
全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源，頻率可達(dá)1000Hz；
高能預(yù)然技術(shù)（HEPS）；
優(yōu)化設(shè)計(jì)的控制和功率電路，完善的激發(fā)安全保護(hù)功能
為不同分析目標(biāo)提供火花、電弧或組合激發(fā)波形
放電電流：400A
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
高性能ARM數(shù)據(jù)處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能
高性能CCD固態(tài)檢測(cè)技術(shù)，波段內(nèi)的譜線全譜接收
外置式計(jì)算機(jī)（用戶自選）
FPGA及高速數(shù)據(jù)通訊技術(shù)，數(shù)據(jù)讀入功能強(qiáng)大，檢測(cè)數(shù)據(jù)整體讀入時(shí)間短
分析軟件
基于Windows系統(tǒng)的多國(guó)語(yǔ)言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實(shí)用
*管理的控制整個(gè)測(cè)量過(guò)程及為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力
儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*解決方案
軟件實(shí)現(xiàn)全譜檢測(cè)、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力
完備的自動(dòng)系統(tǒng)診斷功能
完善的數(shù)據(jù)庫(kù)管理功能，可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)
智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠
完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準(zhǔn)
適應(yīng)Windows操作系統(tǒng)
能夠自動(dòng)完成數(shù)據(jù)采集、處理、生成office辦公軟件能接受的數(shù)據(jù)格式
實(shí)驗(yàn)室環(huán)境
環(huán)境要求
儀器須放置在實(shí)驗(yàn)室內(nèi)，室內(nèi)面積大于10平方米，并確保周圍無(wú)有害、易燃及腐蝕性的氣體。注意事項(xiàng)：禁止將本儀器置于化學(xué)分析實(shí)驗(yàn)室內(nèi)。
工作溫度：10℃～30℃，3小時(shí)內(nèi)室溫波動(dòng)小于2℃，要求實(shí)驗(yàn)室安裝空調(diào)。
存儲(chǔ)溫度：0℃～45℃
環(huán)境相對(duì)濕度：20%～80%，對(duì)于潮濕地區(qū)，需配備一臺(tái)去濕機(jī)
全譜直讀光譜儀TY-9000的分光室裝在具有溫控裝置的箱體內(nèi)，能在上述環(huán)境范圍內(nèi)正常工作，若超出上述要求范圍，儀器的使用壽命和測(cè)量精度將受到影響
電源要求
電源：?jiǎn)蜗?20±20V、1KVA的電源供電。
1kVA～3kVA的單相220V交流參數(shù)穩(wěn)壓器。
為保證儀器可靠使用，用戶必須保證電網(wǎng)的PE保護(hù)地良好接地，且與其他大型設(shè)備的保護(hù)地分開。如果用戶不能保證PE良好接地，請(qǐng)為儀器單獨(dú)準(zhǔn)備一根地線，要求接地電阻小于4歐姆。
氬氣要求
1.氬氣純度≥99.999%，含氧量≤2ppm，含H2O量≤5ppm，（氬氣瓶不能露天存放，嚴(yán)禁雨淋）。如無(wú)高純氬氣，建議使用氬氣凈化器。
2.氬氣使用流量：待機(jī)流量 約0.1L/min，維持流量約（0.4-0.5）L/min，激發(fā)流量約3.5L/min。
3.氬氣控制壓力：0.5Mpa。
氬氣連接管
必須使用隨機(jī)提供的氬氣銅管連接。
排氣瓶
儀器排出的廢氣通過(guò)一根14mm內(nèi)徑的PVC增強(qiáng)管排到隨機(jī)提供的過(guò)濾瓶中。需要及時(shí)清理更換以防止出氣不暢。
樣品制備
對(duì)于鋁基、銅基等有色金屬樣品必須使用車床制備樣品。
對(duì)于鐵基樣品必須使用磨樣機(jī)制備樣品，一臺(tái)磨樣機(jī)及一臺(tái)落地式砂輪機(jī)，用于鋼鐵試樣表面的打磨。鑄鐵樣品白口化必須均勻。
用戶需要準(zhǔn)備一臺(tái)切割機(jī)，用于外型不適于光譜儀分析的樣品的處理；
被分析樣品必須均勻，無(wú)氣孔，無(wú)鑄造缺陷,制備必須達(dá)到表面平滑，無(wú)氧化層，無(wú)油污，樣品邊緣無(wú)毛刺。
標(biāo)準(zhǔn)樣品要求
隨機(jī)附贈(zèng)一塊光譜校正標(biāo)準(zhǔn)樣品，用于校正儀器的整體光譜漂移。除此之外，用戶需準(zhǔn)備適合自己產(chǎn)品類型的標(biāo)準(zhǔn)樣品或內(nèi)控樣品，用于儀器分析曲線的校正。
PC和打印機(jī)要求
準(zhǔn)備一臺(tái)當(dāng)前常規(guī)配置的PC（筆記本和臺(tái)式機(jī)均可），要求內(nèi)存1GB以上，CPU雙核1.8G Hz以上，用于安裝分析軟件。
準(zhǔn)備一臺(tái)打印機(jī)，激光、噴墨或針式打印機(jī)均可，用于分析數(shù)據(jù)報(bào)表的打印。
