COULOSCOPE CMS STEP 雙層鎳鍍層測(cè)量版本
Couloscope CMS2 STEP 電解測(cè)厚儀
4種不同類(lèi)型的測(cè)量臺(tái)適合于測(cè)量各種種類(lèi)的被測(cè)物體。
Couloscope CMS2 STEP 庫(kù)侖測(cè)電位差測(cè)厚儀
※為了安全起見(jiàn)，使用認(rèn)證的校準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)片
庫(kù)倫測(cè)量原理 :
這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫(kù)侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過(guò)在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過(guò)程。所載入的電 流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離面 積保持不變，鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。
作為測(cè)量鍍層厚度zui簡(jiǎn)單的方法之一，庫(kù)侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu)， 當(dāng)允許破壞性測(cè) 量時(shí)，它提供了一個(gè)比 X 射線(xiàn)更經(jīng)濟(jì)的替代方法。
很多常見(jiàn)的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡(jiǎn)單快速地測(cè)量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測(cè)量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi)， 很多 材料不需要預(yù)設(shè)定；基材組成和幾何形狀對(duì)于測(cè)量都 是無(wú)關(guān)緊要的。
zui常見(jiàn)的應(yīng)用之一就是測(cè)量線(xiàn)路板上剩余的純錫，以確 ?？珊感?。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料（ABS） 基材上，經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品，也可以用這個(gè) 方法進(jìn)行測(cè)量
COULOSCOPE CMS基本配置：
儀器： Couloscope CMS
測(cè)量臺(tái)： V24、V26、V18 等
電解液： F1 ～ F22
COULOSCOPE CMS特征：
標(biāo)準(zhǔn)：DIN EN ISO 2177 ； ASTM B504
模擬輸出： 0 ～ -18V
輸入阻抗： ＞ 2 KΩ
工作溫度： 10 ℃ ～ 40 ℃
儀器重量： 6 kg
電源： AC 220 V ，50-60 Hz；zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸： 350W * 140H * 200D mm
特性:
吸引人的設(shè)計(jì)，大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤(pán)。
操作簡(jiǎn)單，菜單指引的操作提示。
電解區(qū)域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。
大約100個(gè)預(yù)先定義好的應(yīng)用程式適用于大多數(shù)的金屬鍍層，包括測(cè)量線(xiàn)材。
測(cè)量印刷線(xiàn)路板上剩余純錫的厚度
下面的公式適用于通過(guò)庫(kù)侖法電解腐蝕確定鍍層厚度：
測(cè)量槽------可比作微型電解缸------被用來(lái)剝離鍍層。 測(cè)量 面積由裝在測(cè)量槽上的墊圈尺寸來(lái)決定。對(duì)不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過(guò)載入電流開(kāi)始電解過(guò)程。 電解過(guò)程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制， 用一 個(gè)泵攪拌電解液來(lái)使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕，保證電 解液*利用。 根據(jù)測(cè)量區(qū)域的大小，各種直徑的墊圈 可供選擇。
