XperRam Photocurrent光電流成像光譜系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介
Nanobase的光電流成像系統(tǒng)XperRam Photocurrent Mapping system 利用了顯微成像掃描技術(shù)，對樣品表面做一個快速掃描。產(chǎn)生的光電流信號通過探針引到電流源表，再顯示在軟件界面，做成成像圖顯示樣品表面電流分布。
光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping System 又稱為掃描光電流顯微成像系統(tǒng)，用來檢測材料光電流強度分布的設(shè)備，主要用來測量光電材料的光電響應(yīng)信號和表征材料的光電特征。XperRam Photocurrent Mapping system 光電流成像系統(tǒng)將光電材料對于光信號響應(yīng)的不均勻性以可視化和量化的方式顯示出來。該系統(tǒng)可以研究光電探測器的量子效率，器件的電阻分布特征，研究太陽能電池光生電流的不均勻性，研究器件吸收和電荷生成的微區(qū)特性，以及光電材料界面，半導(dǎo)體結(jié)區(qū)的品質(zhì)分布等。
整個系統(tǒng)的個構(gòu)成如下圖，包含光源（激光器或者連續(xù)光源），顯微鏡，激光掃描振鏡，數(shù)字源表，探針臺和計算機軟件等。激光通過掃描振鏡，擴束鏡，經(jīng)過顯微鏡聚焦到樣品表面，激光激發(fā)產(chǎn)生光電效應(yīng)（電流），電流信號通過探針引出至電流源表，再讀出至電腦軟件，掃描時，振鏡是通過偏振光控制器控制，激光的光斑再樣品的XY方向上掃描移動，軟件記錄每一個激光聚焦光斑的位置和其對應(yīng)的電流值，在軟件的一側(cè)，同步描繪出光電流成像圖，顯示了樣品的電流分布。
功能描述
l 光電流成像（Photocurrent Measurement and Imaging ）
光電流系統(tǒng)探針臺 三星光電院定制的光電流系統(tǒng)
光電流成像圖和電流計數(shù)值
簡易光電流平臺（Side plate） Positioner Holder 探針
產(chǎn)品特點
? 超快掃描成像（大于1000譜/S）
? 超緊湊結(jié)構(gòu)（光電流掃描成像和顯微鏡一體式設(shè)計）
? 成本低（客戶僅需要在原來的探針臺或者拉曼設(shè)備上做改造就可以，不需要額外購買平移臺，這是振鏡掃描的優(yōu)勢所在）
? 可視化和人性化軟件（定制研發(fā)了電流源表輸出和成像掃描視覺窗口，客戶在一個界面實現(xiàn)光電流數(shù)據(jù)和成像mapping的對比比較方便）
? 可擴展增加其它波長的激光器，增加拉曼光譜，熒光光譜成像系統(tǒng)等
? 可增加高低溫恒溫器，鎖相放大器，斬波器等
基本參數(shù)
激光器（光源）
l 可配置1~3個激光器，窄線寬激光器用于拉曼光譜測試和光電流測試
l 波長范圍： 400~1550nm （典型的為 VIS: 405nm/532nm/633nm, NIR :1550nm）
l 可選配一個光纖接口用于接入外部激光器光源
l 可選配超連續(xù)譜白光激光器（400nm~2400nm）
顯微鏡
l 奧林巴斯顯微鏡：BX61 （正置）（可根據(jù)客戶要求選配）
l 反射式/透射式LED照明
l 物鏡：標(biāo)配（40X， NA=0.75） 選配：多種倍率和超長焦距物鏡
l 透過率：＞60% （360nm~1000nm）
掃描模塊
l 掃描面積：200um×200um
l 掃描精度： 小于10nm
l 步進：＜50nm
l 掃描速度：＞1000 譜/秒
電流
l 測量范圍：1pA – 1A
l 準(zhǔn)確度： 0.04%
l 電流源表：Keithley 2400
探針臺
l 可根據(jù)客戶要求定制
其它
l 低溫恒溫器（2.2K）/高溫?zé)崤_（1500℃）
l 根據(jù)客戶要求定制探針臺
l 可選配斬波器，前置放大器，鎖相放大器等提高系統(tǒng)靈敏度
探針臺參數(shù)：
探針臺
6寸真空吸附卡盤，
光譜范圍
750px-1到150000px-1
XY方向移動范圍
150 x 150mm, 分辨率5um FOV：200µm x 200µm@40X物鏡
Z方向移動范圍
上/下10mm, 分辨率1um
探針頭
金，鎢
高精度定位器
PH-C15, 10fA leakage current 4SET
應(yīng)用領(lǐng)域
石墨烯，二維材料，半導(dǎo)體工業(yè)，結(jié)晶度分析，太陽能電池，儲能材料，探測器光電性能檢測，晶圓體分析，探測器檢測，器件吸收和電荷生成的微區(qū)特性。
相關(guān)文獻
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