臺(tái)式三維原子層沉積系統(tǒng)-ALD是通過將氣相前驅(qū)體脈沖交替的通入反應(yīng)器，化學(xué)吸附在沉積襯底上并反應(yīng)形成沉積膜的一種方法，是一種可以將物質(zhì)以單原子膜形式逐層的鍍?cè)谝r底表面的方法。因此，它是一種真正的“納米”技術(shù)，以精確控制方式實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的超薄薄膜沉積。由于ALD利用的是飽和化學(xué)吸附的特性，因此可以確保對(duì)大面積、多空、管狀、粉末或其他復(fù)雜形狀基體的高保形的均勻沉積。

臺(tái)式三維原子層沉積系統(tǒng)-ALD

應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體 燃料電池

光子學(xué) 常規(guī)電池

MEMS 太陽能電池

催化劑 生物傳感器

高能物理 工業(yè)涂覆加工

臺(tái)式三維原子層沉積系統(tǒng)-ALD系統(tǒng)特點(diǎn)

* 300℃ 鋁合金熱壁，對(duì)流式溫度控制

* 175℃溫控150ml前驅(qū)體瓶，200℃溫控輸運(yùn)支管

* 可容納多片4，6，8英寸樣品同時(shí)沉積

* 可容納1.25英寸/32mm厚度的基體

* 標(biāo)準(zhǔn)CF-40接口

* 可安裝原位測量或粉末沉積模塊等選件

* 等離子體輔助ALD插件

* 多種配件可供選擇

 Quantum 量子科學(xué)儀器貿(mào)易（北京）有限公司(暨Quantum Design中國子公司)是世界的科學(xué)儀器制造商——美國 Quantum Design 公司在*設(shè)立的諸多子公司之一。美國 Quantum Design 公司生產(chǎn)的 SQUID 磁學(xué)測量系統(tǒng) (MPMS) 和材料綜合物理性質(zhì)測量系統(tǒng) (PPMS) 已經(jīng)成為*的*測量平臺(tái)，廣泛的分布于世界上幾乎所有材料、物理、化學(xué)、納米等研究領(lǐng)域*的實(shí)驗(yàn)室。同時(shí)美國 Quantum Design 公司還利用自己遍布世界的專業(yè)營銷和售后隊(duì)伍打造一個(gè)代理分銷網(wǎng)絡(luò)，與世界其他*的設(shè)備制造商合作，為其提供遍布的專業(yè)產(chǎn)品銷售和售后服務(wù)網(wǎng)絡(luò)，2007 年美國 Quantum Design 公司并購了歐洲較大的儀器分銷商德國 LOT 公司，使得 Quantum Design 公司代理分銷和售后網(wǎng)絡(luò)變得更加完整和強(qiáng)大。