自1985年起，Laurell公司向遍布的生物化工和半導體材料科研領域的實驗室提供表面涂敷工藝的解決方案，目前，*有超過15000套系統(tǒng)正在安全運行。

    WS-1000M Wet Station半導體濕法刻蝕設備，全白色聚丙烯構(gòu)造，可內(nèi)置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統(tǒng)，可選擇WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000系列旋轉(zhuǎn)處理濕法設備可以被配置成測試模塊構(gòu)造，安裝簡便，易于拆卸，更便于操作者控制。

一、半導體濕法刻蝕設備功能：
● 涂敷Coating
● 刻蝕Etching
● 顯影Developing - Aqueous / Solvent
● 清洗Cleaning-Aqueous / Solvent
● 可選配, Sulfuric硫化物 / Peroxide雙氧水，溶液處理(insitu mixing)
● 可選配, HBr溶液處理
● 帶溫控的顯影功能
● 沖洗甩干

二、半導體濕法刻蝕設備特點：
● 全PP材質(zhì)構(gòu)造
● 可集成Laurell勻膠旋涂系統(tǒng)
● 有排孔的濕站操作臺 (易清潔)
● 特殊設計的濕站壓力系統(tǒng)Wet plenum
● 帶流量計的排液管道
● 各類組件的隔離設計（散熱原件，泵浦和壓力容器等）

三、半導體濕法刻蝕設備材料選擇：
可以根據(jù)應用選擇更高級的材料；
● WS-1000-CP5 符合SEMI S93標準應用在消防安全和潔凈空間等領域。CP5符合UL94 V-O 火災分類標準。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能，耐化學藥品性和耐火性。

● WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合zui嚴格的FMRC 4910測試標準，滿足多方面條件下的難燃性，自熄特點和*燃燒。這種*的材料也達到或超過產(chǎn)生低煙和zui小毒副產(chǎn)品的檢測標準。