基質(zhì)輔助脈沖激光沉積系統(tǒng)系統(tǒng)技術(shù)指標(biāo)：
大襯底尺寸
One 2-inch diameter substrate or multiple small samples. Larger substrates and custom substrate holders are available on request.
大襯底溫度：300°C typical, but other heaters are available.
MAPLE靶材溫度： -194°C (80 K)
壓力操作范圍：Base pressure depends strongly on polymer/solvent mix and the solvent vapor pressure
MAPLE靶材尺寸：Single 1.5” diameter target standard, larger targets available on request.
靶材到襯底(Throw) 距離：Variable from 2.5 to 4 inches
光柵路徑長(zhǎng)度：Across complete MAPLE target
基質(zhì)輔助脈沖激光沉積系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)的激光束射向靶材入射角度：60°
主腔體本底真空：P < 5 x 10-7 Torr guaranteed with system at room temperature and no polymer/solvent mix.
真空腔體：Box style chamber with easy substrate / target changes.
激光波長(zhǎng)：2.9 microns (Er:YAG laser), other lasers/wavelengths available on request.
科睿設(shè)備有限公司是一家專門(mén)從事材料生長(zhǎng)、材料分析、納米科技、半導(dǎo)體測(cè)試設(shè)備銷(xiāo)售、服務(wù)及技術(shù)咨詢的高科技公司。我司代理了多家*水平的分析儀器和設(shè)備，產(chǎn)品包括：
*光刻機(jī)(Mask Aligner)、勻膠機(jī)(Spin Coater)、深能級(jí)瞬態(tài)譜儀(DLTS)等；
*電子束蒸發(fā)系統(tǒng)(E-Beam Evaporation)、磁控濺射系統(tǒng)、脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)、原子層沉積系統(tǒng)、快速退火爐(RTP)、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)、反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)(RIE)；
*掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe)、飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜(TOF-SIMS)；
*氣溶膠發(fā)生器、氣溶膠粒徑譜儀、氣溶膠稀釋器、濾料測(cè)試系統(tǒng)、煙霧發(fā)生器、空氣示蹤器等。
科睿設(shè)備有限公司扎扎實(shí)實(shí)的將代理的產(chǎn)品真誠(chéng)的奉獻(xiàn)給中國(guó)的科研工作者，我們以能為廣大中國(guó)科研工作者提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)為榮。而為客戶提供整體的解決方案，是科睿技術(shù)發(fā)展有限公司一貫堅(jiān)持的宗旨。
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