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T100型*摩擦磨損試驗(yàn)機(jī) T100*摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 儀思通科技(香港)有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) T100型*摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)
  • 所在地
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2021/1/28 13:33:27
  • 訪問次數(shù) 321

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美國NANOVEA公司的T100型摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)是一款多功能的摩擦磨損試驗(yàn)機(jī)設(shè)備,可在一臺(tái)設(shè)備上實(shí)現(xiàn)旋轉(zhuǎn),線性往復(fù),環(huán)-塊,環(huán)-環(huán)四種工作模式,同時(shí)具有原位磨損率測(cè)量模塊,高溫模塊,低溫模塊,濕度模塊,膜厚測(cè)量模塊,氣氛模塊,潤滑模塊,真空模塊,電化學(xué)腐蝕摩擦模塊,光學(xué)顯微鏡,聲發(fā)射模塊等多種模塊可供選擇,是科研客戶及工業(yè)客戶的理想選擇。該儀器除了能得到摩擦系數(shù)及摩擦力外,還可自動(dòng)得到磨損率,磨損深度,磨損面積體積,粗糙度及二維表面形貌,同時(shí)能計(jì)算靜摩擦系數(shù)與Stribeck曲線。

詳細(xì)信息 在線詢價(jià)

一、產(chǎn)品特性:


1、可在同一儀器上實(shí)現(xiàn)多種測(cè)量功能,真正意義上的*摩擦磨損測(cè)試;

2、符合ASTM3702,ASTM G99與ASTM G133等標(biāo)準(zhǔn);

3、用于高**進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)摩擦系數(shù)曲線;

4、有旋轉(zhuǎn),線性往復(fù),環(huán)-塊,環(huán)-環(huán)四種工作模式;

5、采用位置譯碼器與速度譯碼器可**控制馬達(dá)控制速度與位置;

6、可測(cè)量靜摩擦系數(shù)及Stribeck曲線;

7、*大載荷:100N;

8、轉(zhuǎn)度:0.01-5000rpm,15000rpm可選;

9、密封式裝置,可以控制環(huán)境,如:氣體、濕度、潤滑等;

10、高溫模式選件,*高可測(cè)1100℃環(huán)境下的摩擦磨損;

11、實(shí)時(shí)接觸電阻測(cè)量選件可提供接觸電阻測(cè)試

12、表面形貌測(cè)試模塊選件用于測(cè)量磨損率,磨損前后二維表面形貌、磨損面積、磨損率、磨損深度、平整度、線粗糙度參數(shù)(Ra,Rp,Rv,Rz,Rc, Rt,Rq,Rsk,Rku,)等表面參數(shù)

13、原位電化學(xué)工作站選件,搭配普林斯頓的電化學(xué)工作站進(jìn)行摩擦腐蝕方向的研究。

14、真空模塊選件,可實(shí)現(xiàn)真空環(huán)境下的摩擦磨損測(cè)試。

15、低溫模塊選件,可實(shí)現(xiàn)低溫-150℃下的摩擦磨損測(cè)試



二、產(chǎn)品應(yīng)用



半導(dǎo)體技術(shù):

·鈍化層

·金屬涂敷

·焊墊

醫(yī)療:

·藥片

·植入物

·生物組織

光學(xué)元件:

·棱鏡


·光纖

·光學(xué)元件涂層

·高容量光存儲(chǔ):

·磁盤涂層

·CD涂層

·薄膜

耐磨材料涂層:

·TiN, TiC, DLC

·切削工具

工程:

·橡膠

·觸摸屏

·涂層

微電子器件系統(tǒng)

裝潢金屬涂層

汽車:

·噴漆涂層

·玻璃印刷層

·汽車精加工部件

三、技術(shù)參數(shù)

主機(jī)參數(shù):

參數(shù)

旋轉(zhuǎn)模式

載荷范圍

50mN-100N

載荷分辨率

6μN(yùn)

旋轉(zhuǎn)速度

0.01-5000rpm/0.05-15000rpm

*大扭矩

4.4Nm

*大摩擦力

+/-100N

摩擦力分辨率(理論)

6μN(yùn)

X軸自動(dòng)控制范圍

50mm

X軸半徑分辨率

2.5μm

儀器尺寸

65cm×52cm×65cm

重量

70Kg

盤尺寸

100mm

接觸探頭

可選針型、球形與銷型

線性往復(fù)模式

*大振幅

25mm

*大掃描頻率

60Hz@5mm沖程

潤滑控制系統(tǒng)(可選)

液體消耗率

60-90cm3/hour

液體容量

120ml

液體容器

包含

高溫測(cè)量系統(tǒng)(可選)

箱體溫度(旋轉(zhuǎn)模式)

1100

加熱片(線掃描模式)

800

液體加熱模式

150

分辨率

1

低溫模塊(可選)

-40/-150

深度傳感器(可選)

*大位移量

2000μm

分辨率

0.1nm

接觸電阻(可選)

*大阻抗

0-1000 Ohms


表面形貌儀模塊技術(shù)參數(shù):

NANOVEA公司提供兩種光學(xué)測(cè)量探頭可供用戶選擇:

EP110(用于磨損較淺的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下:

1) Z方向測(cè)量范圍:100μm

2) Z方向測(cè)量分辨率:20nm

3) Z方向測(cè)量精度:50nm

4)橫向光學(xué)分辨率:3μm

5)光斑直徑:6μm

6)工作距離:1mm

EP1500(用于磨損較深的情況)光學(xué)測(cè)量探頭的技術(shù)參數(shù)如下:

1) Z方向測(cè)量范圍:1.5mm

2) Z方向測(cè)量分辨率:200nm

3) Z方向測(cè)量精度:300nm

4)橫向光學(xué)分辨率:3.5μm

5)光斑直徑:7μm

6)工作距離:2.3mm




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