MILA-5000系列
MILA-5000系列加熱爐體使用紅外金面退火爐，可以進(jìn)行快速升降溫，潔凈加熱。MILA-5000系列將溫控器與石英加熱腔集成于一體的經(jīng)濟(jì)型退火爐，可以在不同的氣氛下進(jìn)行加熱?？赏ㄟ^USB連接電腦并進(jìn)行監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。
MILA-5000UHV
MILA-5000UHV是一款在MILA-5000-P-N（高溫型）基礎(chǔ)上升級(jí)的一款高真空型退火爐。該系列繼承了MILA-5000系列的的特點(diǎn)：快速升降溫，潔凈加熱，可在不同的氣氛下加熱。同樣可以通過USB連接PC進(jìn)行溫度監(jiān)測(cè)與加熱程序設(shè)置。
應(yīng)用
MILA-5000系列
- 鐵電薄膜的晶體退火。
- 離子注入后的擴(kuò)散退火，氧化膜沉積退火。
- 硅和復(fù)合晶片的燒結(jié)，合金化處理。
- 玻璃基板溫度均勻退火。
- 熱循環(huán)，熱沖擊，熱疲勞測(cè)試。
- 程序升溫解吸測(cè)試，催化效果測(cè)試。
MILA-5000UHV
- 在超高真空中進(jìn)行熱處理。
- 程序升溫解吸氣體分析爐。
特點(diǎn)
MILA-5000系列
- 1. 50℃/S的快速升溫.
- 2. 可在真空，惰性氣體，流動(dòng)氣氛，空氣的氣氛下進(jìn)行加熱
- 3. 精確的溫度控制
- 4. 緊湊，桌面型設(shè)計(jì)
- 5. 通過USB連接電腦與爐體，可進(jìn)行溫控程序的編輯與傳輸
- 加熱過程中可通過電腦監(jiān)測(cè)加熱數(shù)據(jù)
MILA-5000UHV
- 可進(jìn)行超高真空的熱處理
- 搭配分子泵，真空度可達(dá)到10-5Pa
- 繼承了MILA-5000-P-N的全部特點(diǎn)
- 緊湊，桌面型設(shè)計(jì)
- 通過USB連接電腦與爐體，可進(jìn)行溫控程序的編輯與傳輸
- 加熱過程中可通過電腦監(jiān)測(cè)加熱數(shù)據(jù)
參數(shù)
MILA-5000系列
| 型號(hào) | MILA-5000-P-N (高溫型) | MILA-5000-P-F (均勻加熱型) |
|---|---|---|
| 控溫范圍 | RT ～ 1200 °C | RT ～ 800 °C |
| 樣品尺寸 | □ 20 × t 2 (mm) | |
| 加熱氣氛 | 空氣，靜態(tài)氣氛，流動(dòng)氣氛，真空 | |
* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。
高真空型
| 型號(hào) | MILA-5000UHV |
|---|---|
| 控溫范圍 | RT ～ 1200 °C |
| 樣品尺寸 | □ 20 × t 2 (mm) |
| 加熱氣氛 | 空氣，靜態(tài)氣氛，流動(dòng)氣氛，真空 |
* 真空泵可選
* 加熱溫度or升溫速率根據(jù)被加熱樣品的紅外反射率，吸收率，熱容和材料而變化。
オプション例
高溫型
MILA-5000-P-N 升溫速率
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
Rating : 200V 4kW, 100%output is not
MILA-5000-P-N 溫度分布
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
測(cè)溫方式：K型熱電偶
Uniform heating type
MILA5000-P-F升溫速率
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：真空
Rating : 200V 1kW, 100%output is not necessay
MILA-5000-P-F 溫度分布
樣品：W20×L20×t0.5(㎜) 鎳板
加熱氣氛：N2流動(dòng)氣氛
測(cè)溫方式：K型熱電偶
MILA5000-P-N型昇溫速度
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V4kW100%出力
MILA5000-P-N型溫度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
TC（K）測(cè)定點(diǎn)
均熱型
MILA5000-P-F型昇溫速度
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : 真空中
定格 : 200V1kW100%出力
MILA5000-P-F型溫度分布
サンプル : W20×L20×t0.5（㎜） Ni板材
雰囲気 : N2ガスフロー中
TC（K）測(cè)定
CCDカメラユニットによるAuの溶融観察
