日本electron臺式快速涂布機SC-708系列
離子濺射設(shè)備，用于大型基材的全涂層
濺射靶材的尺寸為1英寸，例如4'/ 5'/ 6'/ 7'/ 8'。
在形成微通道流動路徑以及濺射薄膜制造時支持PDMS表面處理
配備涂布模式/蝕刻模式

日本electron臺式快速涂布機SC-708系列

日本electron臺式快速涂布機SC-708系列

日本electron臺式快速涂布機SC-708系列

特征 離子濺射設(shè)備，用于大型基材的全涂層 濺射靶材的尺寸為1英寸，例如4'/ 5'/ 6'/ 7'/ 8'。 在形成微通道流動路徑以及濺射薄膜制造時支持PDMS表面處理 配備涂布模式/蝕刻模式   應(yīng)用/結(jié)果示例 各種設(shè)備的電極膜附件 反光膜的制造應(yīng)用 樣品表面親水處理的應(yīng)用（蝕刻模式） PDMS表面處理應(yīng)用程序（蝕刻模式）等   基本規(guī)格 陰極 φ4-8英寸/ 2極電極 濺射電流 蝕刻電流 0-50mA（包括電流表） 濺射電壓 蝕刻電壓 0.8 / 1.4kV 氣體導(dǎo)入機制 針閥 真空泵 直連式旋轉(zhuǎn)泵：100l / min（有自動泄漏） 箱體尺寸 內(nèi)徑φ240mmx D240mm（SUS制） 樣品交換方法 前門開合式 樣本量 大φ4?8英寸 尺寸（寬/深/高） 主體：282/450 / 440mm  RP：460/175 / 265mm 重量 身體：約20kg  RP：23kg       特殊規(guī)格示例 SC-704AT 薄膜厚度可控的全自動模型   采用SC-704MC 磁控管陰極模型 （無蝕刻/交流濺射功能）