產(chǎn)品型號(hào)

VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀

主要特點(diǎn)

1、配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。

2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。

3、體積小，操作簡(jiǎn)便。

技術(shù)參數(shù)

1、輸入電源：220V/50Hz

2、濺射靶數(shù)量：2

3、靶槍冷卻方式：水冷

4、極限真空度：7.4E-5pa

5、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm

6、真空系統(tǒng)：VRD-16機(jī)械泵 FF-100/150渦輪分子泵

7、恢復(fù)真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣）

8、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計(jì)（１路氬氣100scc、２路氬氣200scc）特殊氣體可定制

9、濺射靶規(guī)格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）

10、樣品臺(tái)：Φ140mm/可旋轉(zhuǎn)（1～20rpm）/可加熱（室溫～1000℃）

產(chǎn)品規(guī)格

主機(jī)尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm