WD4000無(wú)圖晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測(cè)、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工行業(yè)?？蓽y(cè)各類(lèi)包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面，從納米到微米級(jí)別工件的厚度、粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等，提供依據(jù)SEMI/ISO/ASME/EUR/GBT四大國(guó)內(nèi)外標(biāo)準(zhǔn)共計(jì)300余種2D、3D參數(shù)作為評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)。
測(cè)量功能
1、厚度測(cè)量模塊：厚度、TTV(總體厚度變化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等；
2、顯微形貌測(cè)量模塊：粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、面積、體積等。
3、提供調(diào)整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能。其中調(diào)整位置包括圖像校平、鏡像等功能；糾正包括空間濾波、修描、尖峰去噪等功能；濾波包括去除外形、標(biāo)準(zhǔn)濾波、過(guò)濾頻譜等功能；提取包括提取區(qū)域和提取剖面等功能。
4、WD4000無(wú)圖晶圓幾何量測(cè)系統(tǒng)提供幾何輪廓分析、粗糙度分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能。幾何輪廓分析包括臺(tái)階高、距離、角度、曲率等特征測(cè)量和直線(xiàn)度、圓度形位公差評(píng)定等；粗糙度分析包括國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO4287的線(xiàn)粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全參數(shù)；結(jié)構(gòu)分析包括孔洞體積和波谷。
應(yīng)用場(chǎng)景
1、無(wú)圖晶圓厚度、翹曲度的測(cè)量
通過(guò)非接觸測(cè)量，將晶圓上下面的三維形貌進(jìn)行重建，強(qiáng)大的測(cè)量分析軟件穩(wěn)定計(jì)算晶圓厚度、粗糙度、總體厚度變化(TTV)，有效保護(hù)膜或圖案的晶片的完整性。
2、無(wú)圖晶圓粗糙度測(cè)量
Wafer減薄工序中粗磨和細(xì)磨后的硅片表面3D圖像，用表面粗糙度Sa數(shù)值大小及多次測(cè)量數(shù)值的穩(wěn)定性來(lái)反饋加工質(zhì)量。在生產(chǎn)車(chē)間強(qiáng)噪聲環(huán)境中測(cè)量的減薄硅片，細(xì)磨硅片粗糙度集中在5nm附近，以25次測(cè)量數(shù)據(jù)計(jì)算重復(fù)性為0.046987nm，測(cè)量穩(wěn)定性良好。
懇請(qǐng)注意：因市場(chǎng)發(fā)展和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)的需要，本產(chǎn)品資料中有關(guān)內(nèi)容可能會(huì)根據(jù)實(shí)際情況隨時(shí)更新或修改，恕不另行通知，不便之處敬請(qǐng)諒解。
部分技術(shù)規(guī)格
品牌：CHOTEST中圖儀器
型號(hào)：WD4000系列
厚度和翹曲度測(cè)量系統(tǒng)
可測(cè)材料：砷化鎵 ;氮化鎵 ;磷化 鎵;鍺;磷化銦;鈮酸鋰;藍(lán)寶石;硅 ;碳化硅 ;玻璃等
測(cè)量范圍：150μm~2000μm
掃描方式：Fullmap面掃、米字、自由多點(diǎn)
測(cè)量參數(shù)：厚度、TTV(總體厚度變 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、線(xiàn)粗糙度
三維顯微形貌測(cè)量系統(tǒng)
測(cè)量原理：白光干涉
干涉物鏡：10X(2.5X、5X、20X、50X,可選多個(gè))
可測(cè)樣品反射率：0.05%~100
粗糙度RMS重復(fù)性：0.005nm
測(cè)量參數(shù)：顯微形貌 、線(xiàn)/面粗糙度、空間頻率等三大類(lèi)300余種參數(shù)
膜厚測(cè)量系統(tǒng)
測(cè)量范圍：90um(n= 1.5)
景深：1200um
最小可測(cè)厚度：0.4um
紅外干涉測(cè)量系統(tǒng)
光源：SLED
測(cè)量范圍：37-1850um
晶圓尺寸：4"、6"、8"、12"
晶圓載臺(tái)：防靜電鏤空真空吸盤(pán)載臺(tái)
X/Y/Z工作臺(tái)行程：400mm/400mm/75mm
如有疑問(wèn)或需要更多詳細(xì)信息，請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系中圖儀器咨詢(xún)。
