Verios 是 FEI **的 XHR（分辨率）SEM 系列的第二代產(chǎn)品。在**半導(dǎo)體制造和材料科學(xué)應(yīng)用中，它可在 1 至 30 kV 范圍內(nèi)提供亞納米量級分辨率以及增強(qiáng)的對比度，滿足材料精密測量所需，同時又不會削弱傳統(tǒng)掃描電子顯微鏡 (SEM) 所具有的高吞吐量、分析能力、樣本靈活性和易用性等優(yōu)勢。

性能特點(diǎn)

Verios 的生命科學(xué)應(yīng)用

觀測敏感的生物樣本時，過高的成像電壓帶來的電子束會損傷樣本，從而無法在細(xì)胞研究中觀測關(guān)鍵細(xì)節(jié)。Verios XHR 掃描電子顯微鏡 (SEM) **可在 1kV 的電子束電壓下工作，因而能**限度減少樣本干擾，同時又不會削弱分辨率和對比度。生物研究人員現(xiàn)在可以處理大量敏感的生物樣本，并迅速生成高分辨率圖像，從而洞察細(xì)胞器的關(guān)鍵功能和過程。
Verios XHR SEM 優(yōu)勢

全新的高對比度檢測器 對敏感的生物樣本進(jìn)行**成像
電子束減速 在極低的電壓下提供高分辨率成像和高表面靈敏度
電子束熄滅裝置 限制敏感的生物樣本的劑量
靜電掃描 **限度減少圖像失真，并改善成像速度，從而進(jìn)一步提高工作效率和質(zhì)量
Verios 的電子工業(yè)應(yīng)用

Verios XHR SEM 推出了全新的檢測器硬件，將 SEM 的觀測能力進(jìn)一步拓展至 20 nm 亞納米量級半導(dǎo)體器件。Verios 可提供**的低電壓 SEM 分辨率和材料對比度，能夠讓半導(dǎo)體工藝控制實(shí)驗(yàn)室測量對電子束敏感的材料以及無法使用傳統(tǒng) SEM 儀器成像的極小結(jié)構(gòu)。 Verios 還包括一些易于使用的新功能，能夠?yàn)?22 nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)及以下的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)提供**的每樣本成像和測量成本。
Verios 的材料科學(xué)應(yīng)用

對材料科學(xué)家來說，Verios 可以將亞納米表征拓展到當(dāng)下正在開發(fā)的全新材料（例如催化劑顆粒、納米管、孔隙、界面、生物對象和其他納米量級結(jié)構(gòu)），從而讓他們獲得重要的新發(fā)現(xiàn)。無需轉(zhuǎn)而采用 TEM 或其他成像技術(shù)便可獲得高分辨率、高對比度圖像。Verios 可靈活用于各類研究應(yīng)用，能夠容納全尺寸晶圓或冶金樣本之類的大樣本。您可以在高電流模式下執(zhí)行快速分析，也可以開展精確的原型設(shè)計(jì)應(yīng)用，例如電子束感應(yīng)式材料直接沉積或光刻。

應(yīng)用領(lǐng)域

掃描電鏡**地應(yīng)用于金屬材料（鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工）和非金屬材料（化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維）等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。