一直以來，Helios NanoLab™ DualBeam™ 都綜合采用了電子和離子光學(xué)系統(tǒng)、配件和軟件，能夠納米量級研究提供強(qiáng)大的解決方案。對于從事納米技術(shù)前沿研究的科學(xué)家，Helios NanoLab 能讓他們拓展研究邊界，為材料研究開辟新的天地。 

借助亞納米SEM 成像技術(shù)S/TEM 超薄樣本制備能力，科學(xué)家能夠?qū)elios NanoLab 當(dāng)作理想的研究伴侶，為未來的科技進(jìn)步開發(fā)創(chuàng)新的新材料和納米量級器件。

Helios NanoLab 的材料科學(xué)應(yīng)用

在材料科學(xué)領(lǐng)域，研究人員面臨的挑戰(zhàn)是持續(xù)改善目前制造的材料和設(shè)備的質(zhì)量。為了實(shí)現(xiàn)技術(shù)進(jìn)步，在納米量級了解結(jié)構(gòu)和成分細(xì)節(jié)至關(guān)重要。Helios NanoLab 設(shè)計用來以低至亞納米量級的分辨率提供多尺度、多維度洞察，讓研究人員能夠觀測樣本微小的細(xì)節(jié)。Helios NanoLab 還可為原子分辨率S/TEM 成像迅速制備高質(zhì)量的樣本。此外，如果研究工作包括開發(fā)MEMS 或NEMS 器件，也可配備Helios NanoLab 打造全功能原型。