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日立離子研磨裝置IM4000

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概述
產(chǎn)品參數(shù)

日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器!


  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )混合模式帶有兩種研磨配置:
    斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
    平面研磨:將樣品表面均勻研磨5平方毫米,從不同角度有選擇地研磨,以便突出樣品的表面特性。

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )高通量能提高加工效率:
    與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計,減少了橫截面研磨時間。
    (加工率:硅元素為300微米/小時 — 加工時間減少了66%。

  • 日立高新離子研磨裝置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )可拆卸樣品臺裝置:

    為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣,可將樣品臺裝置拆卸。


特點



  • 混合模式:兩種研磨配置
    斷面加工:將樣品斷面研磨光滑,便于表面高分辨觀察
    平面研磨:不同角度有選擇地,大面積,均勻地研磨5 mm的平面,以突顯樣品的表面特性

  • 高效:提高加工效率
    與之前的E-3500型相比,采用新型離子槍設(shè)計,減少了橫截面研磨時間
    (加工速度:硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時間減少了66%)

  • 可拆卸式樣品臺:
    為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨,樣品臺設(shè)計為可拆卸型

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