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原位XPS測(cè)試（X射線光電子能譜儀）

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設(shè)備介紹EscaLab250XiX射線光電子能譜儀是一臺(tái)多功能高性能的表面分析儀器，它可以用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對(duì)含量

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設(shè)備介紹

EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀是一臺(tái)多功能高性能的表面分析儀器，它可以用于研究各種固體材料樣品表面（1-10nm厚度）的元素種類、化學(xué)價(jià)態(tài)以及相對(duì)含量。結(jié)合離子刻蝕技術(shù)還可以獲得元素及化學(xué)態(tài)深度分布信息；通過(guò)成像技術(shù)可以獲得元素及化學(xué)態(tài)的面分布信息；利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區(qū)表面信息。

儀器型號(hào)

EscaLab 250Xi

技術(shù)參數(shù)

  • 檢測(cè)器譜分析探測(cè)器為6通道電子倍增器陣列。
  • 離子槍離子能量從100eV至4keV，能量3keV時(shí)離子束流大于6 μA，束流2.5 μA 和能量 4 keV時(shí)最小束斑200μm。
  • 樣品臺(tái)移動(dòng)范圍X方向50mm，Y方向20mm，分辨1 μm
  • 光學(xué)系統(tǒng)的視場(chǎng)范圍300 μm至 ~2.5 mm

案例展示

    應(yīng)用范圍

    EscaLab 250Xi X射線光電子能譜儀在金屬、玻璃、高分子、半導(dǎo)體、納米材料、生物材料以及催化等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。


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