生物型原子力顯微鏡
關(guān)于JPK NanoWizard 4 XP
1）集高分辨、快速掃描和便捷性于一身
全新的NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM融合閉環(huán)原子級分辨率與 100???μm 掃描器于一體。大范圍掃描器可以在樣品上進(jìn)行大范圍的精確移動，并直接訪問感興趣的特征區(qū)域。精密的機(jī)械工程與的電子設(shè)備提供了當(dāng)今市場上的穩(wěn)定性與的噪音水平，保證了杰出的高性能和可靠的高分辨成像。全新的Vortis™2 控制器采用的 FPGA 技術(shù)，實(shí)現(xiàn)高速的信號處理與控制?？蛇x的快掃功能提供高達(dá)150 Hz 線速率的掃描性能。
2）PeakForce Tapping®——高質(zhì)量成像技術(shù)
PeakForce Tapping® 技術(shù)作為一種滿足您所有需求的成像模式已經(jīng)贏得了業(yè)界廣泛贊譽(yù)。無論是何種樣品、何種環(huán)境，該技術(shù)都可以提供的力控制和良好的易用性。該技術(shù)可以精確的控制探針與樣品之間的相互作用力，并可以的降低成像所需的作用力，從而保護(hù)探針與樣品，確保穩(wěn)定的、長時(shí)間的高分辨成像。
3）杰出的易用性：快速獲取高質(zhì)量數(shù)據(jù)
JPK的 V7 軟件可以優(yōu)化工作流程，幫助加速科學(xué)成果產(chǎn)出。簡單直觀的設(shè)置可以幫助初學(xué)用戶快速上手，獲得可靠且可重復(fù)的結(jié)果，節(jié)省了寶貴的研究時(shí)間。其靈活的工作理念使經(jīng)驗(yàn)豐富的用戶可以直接訪問專家功能和高級反饋模式，同時(shí)也可以使用一鍵校準(zhǔn)和簡化設(shè)置以提升產(chǎn)出效率
4）大掃描器快速掃描的新基準(zhǔn)
經(jīng)過驗(yàn)證的 JPK 快速掃描技術(shù)現(xiàn)在已經(jīng)可以用于NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM 平臺。該系統(tǒng)兼具 150 Hz 的線掃描速率與大掃描范圍，可提供的優(yōu)異性能。它為所有組件提供了的帶寬，精確的力控制和快速的反饋。以前的快速掃描受到掃描范圍的限制，只能在很有限的
掃描范圍內(nèi)才可以實(shí)現(xiàn)快速掃描。如今，大掃描范圍下的掃描速度成為變?yōu)楝F(xiàn)實(shí)，消除了 XY 方向大范圍掃描和Z方向大落差掃描的限制。完整的 100 μm×100?μm 橫向掃描范圍仍可以應(yīng)用的測量速度，用戶可以輕松的在樣品特征位置之間切換，而無需重新定位樣品或犧牲成像速度。使用全新的 NestedScanner™ 技術(shù)，現(xiàn)在可以對高度差可達(dá)16.5μm 的結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行快速成像。研究人員可以在大起伏或陡峭樣品表面以空間時(shí)間分辨率進(jìn)行動態(tài)過程研究。
5）高通量與動態(tài)觀察——材料學(xué)研究的利器
快速掃描功能提供了實(shí)時(shí)高分辨研究所需的速度和準(zhǔn)確性，可以幫助理解結(jié)晶、生長、熔化、相分離、疇狀結(jié)構(gòu)產(chǎn)生或島結(jié)構(gòu)的形成等現(xiàn)象。JPK 的探針掃描設(shè)計(jì)，允許使用各種 NanoWizard ® 環(huán)境控制附件，這些附件可以加熱或冷卻樣品，交換氣體或液體，或者對樣品施加外部機(jī)械力。
6）擴(kuò)展測量加快研究進(jìn)程
快速掃描功能與 ExperimentPlanner™ 軟件功能結(jié)合使用，基于此用戶可以利用兼容的電動載物臺自動的將樣品從一個(gè)感興趣的區(qū)域移至下一個(gè)感興趣的區(qū)域，從而快測量多個(gè)位置并大大提升產(chǎn)出效率。優(yōu)化的視頻制作工具使得數(shù)據(jù)處理比以往任何時(shí)候都更加容易。
快速掃描功能的優(yōu)勢
a）提升產(chǎn)出效率：
快速獲取數(shù)據(jù)并對多個(gè)區(qū)域進(jìn)行快速測量
b）使用NestedScanner™ 技術(shù)
對高落差或大起伏樣品表面進(jìn)行快速測量
c）樣品動態(tài)過程實(shí)時(shí)觀察分析
d）聚合物、薄膜或其他功能材 料的延時(shí)觀察與分析
7）多種電學(xué)測量模式---對樣品進(jìn)行電學(xué)表征
NanoWizard® 4 XP NanoScience AFM 擁有多種工作模式與附件的支持，工作模式與附件有著易于操作的設(shè)計(jì)，可滿足研究人員個(gè)性化的需求。多種材料材料表征(包括電學(xué)表征)可以在密閉樣品池中進(jìn)行，以實(shí)現(xiàn)惰性氣體氣氛環(huán)境下的測量。
a）導(dǎo)電原子力顯微鏡(CAFM)
b）開爾文探針原子力顯微鏡 (KPM AFM)
c）電化學(xué) (EC) 與掃描電化學(xué) (SECM)
d）掃描隧道電流顯微鏡 (STM)
e）基于高級 QI™ 模式的掃描熱原子力顯微鏡 (SThM)
f）壓電力響應(yīng)顯微鏡 (PFM)
g）靜電力顯微鏡（EFM）
h）磁力顯微鏡(MFM)
8）追尋樣品的特征——樣品分析就在彈指之間
a）易用性新標(biāo)準(zhǔn)兼顧質(zhì)量與效率
全新的V7操作軟件為實(shí)驗(yàn)提供了直觀的工作流程。輕松選擇預(yù)定義實(shí)驗(yàn)或最近使用實(shí)驗(yàn)，結(jié)合一鍵探針校準(zhǔn)，可實(shí)現(xiàn)快速的實(shí)驗(yàn)導(dǎo)航與數(shù)據(jù)采集。上下文關(guān)聯(lián)的幫助提示，對調(diào)整與設(shè)置的狀態(tài)實(shí)時(shí)反饋，可以輕松地獲取有價(jià)值的數(shù)據(jù)同時(shí)直觀地監(jiān)測關(guān)鍵參數(shù)。
b）智能自動化測試加速產(chǎn)出效率
也的導(dǎo)航方式即直接可視化您感興趣的區(qū)域。全新 DirectOverlay™2 提供了即時(shí)導(dǎo)航界面，可直接選取掃描器允許范圍內(nèi)任何的位置進(jìn)行測量。馬達(dá)驅(qū)動精密位移樣品臺和 HybridStage™ 可以解除AFM掃描器掃描范圍對導(dǎo)航范圍的約束，實(shí)現(xiàn)通過電動馬達(dá)直接移動到選定的位置。全新的 DirectTiling功能可以自動創(chuàng)建大范圍的光學(xué)導(dǎo)航成像，以加速自動化測試過程。MultiScan 功能可以拼接高分辨圖像，已建立樣品的全面概覽。重復(fù)性或復(fù)雜程序性測試可以使用 ExperimentPlanner™生成宏命令自動執(zhí)行。
c）基于 QI™ 模式和力曲線成像模式---強(qiáng)大的定量力學(xué)性能分析
高級 QI™ 模式使用線性運(yùn)動的力曲線，可以輕松獲得分辨率的形貌成像，同時(shí)獲得力學(xué)和電學(xué)性質(zhì)信息。每個(gè)像素點(diǎn)包含了對樣品彈性、黏附力、耗散、化學(xué)相互作用或?qū)щ娦赃M(jìn)行完整定量分析所需的所有數(shù)據(jù)。軟件擁有強(qiáng)大的批處理功能，全面的擬合設(shè)置與具有多種模型的模量擬合功能可提供的性能。NanoWizard® 4 XP 同時(shí)還提供了快速力曲線成像模式、單分子力譜以及單細(xì)胞力譜模式。
全面的納米力學(xué)測量模式
a）具有接觸點(diǎn)成像 (CPI) 的高級 QI™ 模式
b）RampDesigner™ 用于復(fù)雜力譜實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)
c）快速力曲線成像模式
d）微觀流變學(xué)測量
e）摩擦力顯微鏡
f）接觸共振成像
g）高次諧波成像(振幅調(diào)制、相位調(diào)制以及振幅調(diào)制)
h）力調(diào)制模式
i）納米壓痕與納米操縱
9）全面的環(huán)境控制方案------為各種高級應(yīng)用保駕護(hù)航
a）溫度控制配件
b）電化學(xué)配件
c）小體積樣品池配件
d）液體/氣體氛圍控制配件用于電學(xué)性質(zhì)表征
10）一款真正的多用途平臺------滿足您持續(xù)增長的需求
a）靈活性與模塊化設(shè)計(jì)：
現(xiàn)代實(shí)驗(yàn)室研究的基本要求NanoWizard® 系列 AFM 以其模塊化的設(shè)計(jì)理念而聞名，可限度的滿足所有組件的兼容性。AFM 掃描頭可以兼容多代附件、樣品臺與功能模塊，確保能效的延續(xù)性并實(shí)現(xiàn)成本經(jīng)濟(jì)的軟硬件功能升級，從而使 NanoWizard® 4 XP 具有極大的靈活性，可以滿足用戶不斷變化的應(yīng)用需求。NanoWizard® 4 XP 是迄今為止功能最多的 AFM 系統(tǒng)，它提供了的光學(xué)集成以及數(shù)量的功能配件與工作模式，易于升級的特點(diǎn)確保其跟上功能革新與技術(shù)發(fā)展
的步伐。
b）簡潔經(jīng)濟(jì)高效的升級方案
*Vortis™ 2 控制器或可選的高級 Vortis™ 2 控制器
*多種不同的測量頭
*強(qiáng)大的軟件功能模塊
*數(shù)量的功能配件與工作模式
c）可在多種模式下施加不同外部刺激------實(shí)時(shí)控制樣品狀態(tài)
*可施加高壓的壓電力響應(yīng)顯微鏡 (PFM)
*StretchingStage 施加外部機(jī)械荷載
*外加磁場
*電化學(xué)實(shí)驗(yàn)(以及掃描電化學(xué)顯微鏡)控制液體電勢差
*納米刻蝕與納米操縱實(shí)現(xiàn)局部力學(xué)控制
*電導(dǎo)原子力顯微鏡實(shí)現(xiàn)光刺激
d）樣品訪問與易用性新亮點(diǎn)
*TopViewOptics™ 模塊: 用于不透明樣品的位置導(dǎo)航，同時(shí)兼容在倒置光學(xué)顯微鏡上使用。
*Head-up 樣品臺: 適用于可達(dá) 14 cm的高大樣品。
*HybridStage: 馬達(dá)驅(qū)動的樣品掃描結(jié)合三軸壓電陶瓷驅(qū)動的樣品掃描(z方向不小于 100 μm) 實(shí)現(xiàn)樣品大范圍精確定位與樣品掃描。
e）高級光學(xué)應(yīng)用集成
*倒置光學(xué)顯微鏡
**寬場與共聚焦 (CLSM) 熒光
**光學(xué)超分辨技術(shù) (STED, TIRF, PALM / STORM)
**熒光光譜技術(shù) (FLIM, FRET, FCS, FRAP ...)
**拉曼光譜技術(shù)
**樣品側(cè)視成像 (50倍物鏡)
*正置光學(xué)顯微鏡
**正置熒光顯微鏡套件 (UFK)
**BioMAT™ 生物材料工作站
*近場光學(xué)測量技術(shù)(包括 TERS 技術(shù))。
