技術(shù)規(guī)格

技術(shù)性能

16 : 64PR硬架構(gòu)帶兩個常規(guī)符合國際標(biāo)準(zhǔn)的UT(超聲）通道

支持現(xiàn)有的所有常規(guī)類型相控陣探頭（線陣、雙線陣、面陣、雙面陣），現(xiàn)有的常規(guī)掃查器（支持三軸聯(lián)動編碼）

Capture軟件內(nèi)置聚焦法則計算器（扇掃、線性掃查、復(fù)合掃查）

支持8組設(shè)置

PRF(脈沖重復(fù)頻率)達20KHz

支持64通道實時全聚焦FMC/TFM檢測

遠程操作和技術(shù)支持

連接通過WIFI連接器 USB3.0 接口和千兆以太網(wǎng)，高速數(shù)據(jù)傳輸，在現(xiàn)場檢測遇到困難的時候?qū)崿F(xiàn)遠程控制檢測和技術(shù)支持（包含TeamViewer遠程軟件）內(nèi)置128G固態(tài)硬盤支持大數(shù)據(jù)文件存儲節(jié)省檢測人員時間

Mantis算法軟件

強大的系統(tǒng)嵌入式UT Capture 軟件

內(nèi)置Capture –GO

快速設(shè)置、檢測、分析喝出報告，輕松完成檢測

支持RMS control ready（自動掃查器）

Capture PC版用于工藝設(shè)置、工藝設(shè)計、數(shù)據(jù)分析

數(shù)據(jù)文件與M2M Gekko高配儀器兼容

工業(yè)需求驅(qū)動進化軟件

嵌入式軟件Capture-Go

一站式軟件平臺包含所有技術(shù)

直觀流程式用戶界面

全面的探頭和掃查器數(shù)據(jù)庫包含市場上主要的廠商的探頭和掃查器

智能化快速校準(zhǔn)工具TCG，DAC，DGS

TOFD工具

TFM幅值校準(zhǔn)

Capture 軟年解析

大多數(shù)相控陣超聲或全聚焦檢測使用的是線陣列探頭。對線陣列探頭中不同的陣元施加延時激發(fā)，能實現(xiàn)聲束在主軸平面上進行電子掃查和扇掃。
有時，檢測位置會受限，并且探頭在正確的平面內(nèi)不得移動。在這種情況下，可以使用面陣列探頭，它可以實現(xiàn)主軸和次軸兩個方向上聲束的偏轉(zhuǎn)

2D陣列探頭是陣元沿兩個方向進行排列的探頭。陣元分布在笛卡爾坐標(biāo)系中，甚至是極坐標(biāo)中，或者隨機分布。探頭可以采用脈沖回波配置，或者一發(fā)一收模式，檢測粗晶材料。下圖顯示的是2D陣列探頭陣元的排布示意圖

見的2D陣列探頭是矩陣探頭，因為它們?nèi)菀字圃?；并且廣泛的應(yīng)用于DMA配置，檢測不銹鋼材料。

在capture軟件中，也可以定義和處理矩陣探頭。下圖顯示的是用于定義8×8矩陣探頭的配置面板，陣元在兩個方向上的p值都為1mm。當(dāng)處理線陣列探頭，計算延時法則時，操作者需要注意陣元在斜楔上的位置  

對于矩陣陣列，規(guī)定沿主動軸和被動軸兩個方向如何激發(fā)陣元同樣也很重要。在下面的例子中，陣元1到陣元8是沿被動軸方向，不是主動軸方向。Capture界面能通過簡單的使用對稱工具，處理任何方向上的陣元  

2D陣列的主要優(yōu)勢是能夠?qū)崿F(xiàn)整個3D體積內(nèi)的檢測。通過使用合適的延時法則，能夠?qū)崿F(xiàn)能量偏轉(zhuǎn)，遠離主動軸平面，從而檢測特定方向分布的缺陷。在檢測位置受限，并將能量沿特定方向進行放射時非常有用。

當(dāng)處理矩陣陣列時，capture能夠調(diào)節(jié)傾斜角度（skew angle）。下面的動畫顯示的是主動軸方向上35°--75°的扇掃，傾斜角度為10°，-10°和0°三個不同平面上的三個扇掃。

當(dāng)處理矩陣陣列時，capture能夠調(diào)節(jié)傾斜角度（skew angle）。下面的動畫顯示的是主動軸方向上35°--75°的扇掃，傾斜角度為10°，-10°和0°三個不同平面上的三個扇掃。

利用capture軟件，我們在三個平面（傾角分別為0°，10°和20°）內(nèi)實現(xiàn)了35°--75°的扇掃。每個傾角的扇掃在Capture中以不同的組顯示；因此，可以根據(jù)每個傾角，選擇視圖（A掃，S掃，C掃）。下面的圖像顯示的是每個平面內(nèi)（0°，10°和20°）的扇掃，其觀察點是從左上角進行觀察的。

可以看到在20°的傾角下，最能觀察到個橫通孔，而對于第二個橫通孔，在10°傾角下的扇掃顯示的結(jié)果更好。通過選擇合適的傾角，可以使得不同的橫通孔以的檢測靈敏度被檢出。

下圖顯示的是20°傾角的扇掃在3D視圖中的顯示：

可以看到，扇掃并非包含在主動軸平面內(nèi)。3D數(shù)據(jù)導(dǎo)出，顯示在B型試塊上兩個有角度的孔上。我們可以清楚的看到這兩個孔以不同的角度加工在試塊上，并貫穿了試塊。