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CX-9000光電直讀光譜儀

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產(chǎn)品概述1、CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術(shù)通道不受限制;2、升級(jí)多基體方便,無須變動(dòng)增加硬件;3、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時(shí)間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性;4、體積小、重量輕,移動(dòng)安裝方便;5、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性、性價(jià)比高;主要特點(diǎn)1、可測(cè)定各種有色金屬的各種元素,適用于多種金屬基體,如:鋁基、銅基、鋅基

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產(chǎn)品概述


1、CCD/CMOS全譜光譜儀制造技術(shù)通道不受限制;

2、升級(jí)多基體方便,無須變動(dòng)增加硬件;
3、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性,同一樣品不同的時(shí)間段分析,可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性;
4、體積小、重量輕, 移動(dòng)安裝方便;
5、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性、性價(jià)比高;


主要特點(diǎn)


1、可測(cè)定各種有色金屬的各種元素,適用于多種金屬基體,如:鋁基、銅基、鋅基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍,可根據(jù)客戶需要選擇通道元素;

2、分析速度快捷,20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線,使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果;

3、光學(xué)系統(tǒng)采用恒溫光室,激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入光室,實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗,提高檢出限,測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確,重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性佳;

4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),體積小、重量輕;

5、自動(dòng)光路校準(zhǔn),光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線,與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定;

6、開放式的電極架設(shè)計(jì),可以調(diào)整的樣品夾,便于各種形狀和尺寸的樣品分析;

7、工作曲線采用國(guó)際標(biāo)樣,預(yù)做工作曲線,可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍,每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成,自動(dòng)扣除干擾;

8HEPS數(shù)字化固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料 ;

9、銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能;

10、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì),使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短,為用戶節(jié)省氬氣,氬氣消耗不到普通光譜儀的一半;

11、采用鎢材料電極,電極使用壽命更長(zhǎng),并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能,清潔電極更加容易;

12、高性能DSP及ARM處理器,具有高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況;

13、與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接,抗干擾性能好,外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān),使儀器具有很好的適用性;

14、核心器件全部,保證了儀器的品質(zhì)。


產(chǎn)品應(yīng)用


CX-9000全譜直讀光譜儀是我公司引進(jìn)歐洲技術(shù)、采用的CCD/CMOS光譜儀技術(shù)開發(fā)的專門針對(duì)有色金屬材料分析的產(chǎn)品。

該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制、爐前化驗(yàn)、中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。

CX-9000全譜直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便,是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。



CX-9000直讀光譜儀

光學(xué)系統(tǒng)

光學(xué)結(jié)構(gòu)

平場(chǎng)型光學(xué)系統(tǒng)

光室溫度

自動(dòng)控制恒溫:35℃±0.5℃

波長(zhǎng)范圍

200-500nm

光柵焦距

350 mm

光譜寬度

25.4mm

光柵刻線

2160 l/mm

一級(jí)光譜線色散率

1.2 nm/mm

探測(cè)器

多塊高性能線陣CCD

平均分辨率

10pm/pixel

激發(fā)臺(tái)

氣體

氬氣

氬氣流量

激發(fā)時(shí)3-5L/min,待機(jī)時(shí):無須待機(jī)流量

電極

鎢材噴射電極技術(shù)

吹掃

點(diǎn)擊自吹掃功能

補(bǔ)償

熱變形自補(bǔ)償設(shè)計(jì)

分析間隙

樣品臺(tái)分析間隙:4mm

激發(fā)光源

類型

HEPS固態(tài)光源

頻率

100-1000Hz

放電電流

1-80A

特殊技術(shù)

放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計(jì)

預(yù)燃

高能預(yù)燃技術(shù)

數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)

處理器

ARM處理器,高速數(shù)據(jù)同步采集處理

接口

基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸

電源與環(huán)境要求

輸入

220VAC/50Hz

功率

分析時(shí)700W,待機(jī)狀態(tài)40W

工作溫度

10-30℃(該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h)

工作濕度

20-80%




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