儀器為單道掃描型ICP-AES，能夠進(jìn)行定性及定量分析，能實(shí)現(xiàn)一次進(jìn)樣多元素同時(shí)分析，分析軟件及數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)便于操作，功能強(qiáng)大。符合JJG768-2005發(fā)射光譜儀鑒定規(guī)程中的技術(shù)要求，達(dá)到A類(lèi)儀器水平。

儀器簡(jiǎn)介：

儀器為單道掃描型ICP-AES，能夠進(jìn)行定性及定量分析，能實(shí)現(xiàn)一次進(jìn)樣多元素同時(shí)分析，分析軟件及數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)便于操作，功能強(qiáng)大。符合JJG768-2005發(fā)射光譜儀鑒定規(guī)程中的技術(shù)要求，達(dá)到A類(lèi)儀器水平。
? 控制及數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)：中文軟件、Windows系統(tǒng)界面操作、使用十分方便，大大提高了分析效率。
◇ 可編輯的分析條件和分析數(shù)據(jù)文件
◇ 可創(chuàng)建定量分析和定性分析必須的測(cè)量條件
◇ 可完成定量和定性分析
◇ 可處理和確定從各種分析中獲得的數(shù)據(jù)
◇ 具有控制等離子點(diǎn)火、滅火、波長(zhǎng)定位等多項(xiàng)功能
◇ 可脫機(jī)使用軟件，隨時(shí)查看數(shù)據(jù)庫(kù)資料，修改參數(shù)
技術(shù)參數(shù)：
進(jìn)樣系統(tǒng)

分光系統(tǒng)

高頻電源

主要特點(diǎn)：

儀器為單道掃描型ICP-AES，能夠進(jìn)行定性及定量分析，能實(shí)現(xiàn)一次進(jìn)樣多元素同時(shí)分析，分析軟件及數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)便于操作，功能強(qiáng)大。符合JJG768-2005發(fā)射光譜儀鑒定規(guī)程中的技術(shù)要求，達(dá)到A類(lèi)儀器水平。
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◇ 可編輯的分析條件和分析數(shù)據(jù)文件
◇ 可創(chuàng)建定量分析和定性分析必須的測(cè)量條件
◇ 可完成定量和定性分析
◇ 可處理和確定從各種分析中獲得的數(shù)據(jù)
◇ 具有控制等離子點(diǎn)火、滅火、波長(zhǎng)定位等多項(xiàng)功能
◇ 可脫機(jī)使用軟件，隨時(shí)查看數(shù)據(jù)庫(kù)資料，修改參數(shù)
進(jìn)樣系統(tǒng)
等離子體炬 石英炬管(垂直觀測(cè))
霧化器 高效玻璃同心
霧化室 雙筒型
氣體流量控制 進(jìn)口氣體流量計(jì)控制精確、穩(wěn)定
分光系統(tǒng) 
波長(zhǎng)范圍 175nm～800nm
分光單元 全息凹面衍射光柵：焦距20cm
中階梯平面衍射光柵：焦距30cm
檢測(cè)器 進(jìn)口雙光電倍增管
光學(xué)分辨率 0.006nm(194nm)
波長(zhǎng)驅(qū)動(dòng)裝置 進(jìn)口步進(jìn)電機(jī)，zui小步距：0.0003nm
高頻電源
發(fā)生器 它激式電子管光源，負(fù)高壓增益自動(dòng)調(diào)節(jié)，自動(dòng)匹配，自動(dòng)點(diǎn)火
工作頻率 40.68MHz
輸出功率 (0.6~1.2)KW(可調(diào))
輸出頻率穩(wěn)定性 ≤ 0.01%
輸出功率穩(wěn)定性 ≤ 0.1%
電磁場(chǎng)泄露強(qiáng)度 距機(jī)身30cm處，電場(chǎng)強(qiáng)度≤1.5V/m，磁場(chǎng)強(qiáng)度≤0.15A/m
儀器整體性能
精密度 RSD ≤2%
波長(zhǎng)示值誤差 ±0.001nm
波長(zhǎng)重復(fù)性 ≤0.002nm
zui小光譜帶寬 Mn257.610nm 半高寬≤0.01nm
代表元素檢出限/(mg/L) Mn257.610nm ≤0.002 
                                          Cr267.716nm ≤0.007 
                                          Cu324.754nm ≤0.007 
                                          Ba455.403nm ≤0.001
重復(fù)性/%Cr,Mn,Cu,Ba (濃度為0.50mg/L～2.00mg/L)≤1.5
穩(wěn)定性/%Cr,Mn,Cu,Ba (濃度為0.50mg/L～2.00mg/L)≤2.0
安全性 安全有效的保護(hù)裝置(如氬氣壓力不足監(jiān)測(cè)、水壓不足、工作室門(mén)監(jiān)測(cè)保護(hù)、等離子氣流量監(jiān)測(cè)保護(hù)等)