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EPMA-8050G

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TheGrandEPMA誕生搭載高質(zhì)量場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)將島津EPMA分析性能發(fā)揮到從SEM觀察條件到1A量級,在各種束流條件下都擁有空間分辨率的場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)

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“The Grand EPMA” 誕生

搭載高質(zhì)量場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng) 
將島津EPMA分析性能發(fā)揮到

從SEM觀察條件到1μA量級,在各種束流條件下都擁有空間分辨率的場發(fā)射電子光學(xué)系統(tǒng)。結(jié)合島津傳統(tǒng)的高性能X射線譜儀,將分析性能發(fā)揮至。

當(dāng)之無愧的“The Grand EPMA” ,高水準(zhǔn)的EPMA誕生!

 

 

 

更高分辨率面分析

對碳膜上Sn球放大3萬倍進(jìn)行面分析。即使是SE圖像(左側(cè))上直徑只有50nm左右的Sn顆粒,在X射線圖像(右側(cè))上也是清晰可見。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

優(yōu)異的技術(shù)實現(xiàn)

■ 的空間分辨率
EPMA可達(dá)到的更高級別的二次電子圖像分辨率3nm(加速電壓30kV)分析條件下的二次電子分辨率。
(加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA)

■ 
二次電子圖像高分辨率高達(dá)3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實例。實現(xiàn)更高分辨率
3nm(@30kV)。相對較高的束流也可將電子束壓
細(xì)聚焦,更加容易的獲得高分辨率的SEM圖像。

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

■ 大束流更高靈敏度分析 
實現(xiàn)3.0μA(加速電壓30kV)的超大束流。
全束流范圍無需更換物鏡光闌。

 至多可同時搭載5通道高性能4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角。
4英寸羅蘭圓半徑兼顧高靈敏度與高分辨率。
至多可同時搭載5通道相同規(guī)格的X射線譜儀。

■ 全部分析操作簡單易懂 
全部操作僅靠一個鼠標(biāo)就可進(jìn)行的可操作性。
追求「易懂」的人性化用戶界面。
搭載導(dǎo)航模式,自動指引直至生成報告。

 

更高靈敏度面分析

使用1μA束流對不銹鋼進(jìn)行5000倍的面分析。精細(xì)地捕捉到了Cr含量輕微不同形成的不同的相(左側(cè)),同時也成功地將含量不足0.1%的Mn分布呈現(xiàn)在我們眼前(右側(cè))。

 

 

 

 

實現(xiàn)微區(qū)更高靈敏度分析的技術(shù)

 

 

1 高亮度肖特基發(fā)射體 
場發(fā)射電子槍采用的肖特基發(fā)射體比一般傳統(tǒng)SEM使用的發(fā)射體針尖直徑更大,輸出更高。即可以保持其高亮度,還可提供高靈敏度分析的穩(wěn)定大電流。

 

2  EPMA專用電子光學(xué)系統(tǒng) 
電子光學(xué)系統(tǒng),聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側(cè),交叉點不是靠聚光透鏡形成,而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上,具有獨立構(gòu)成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的(日本:第4595778號)。簡單的透鏡結(jié)構(gòu),既能獲得大束流,同時全部電流條件下設(shè)定更合適的打開角度,將電子束壓縮到更細(xì)。當(dāng)然是不需要更換物鏡光闌的。

 

3 更高真空排氣系統(tǒng) 
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級差動排氣系統(tǒng)。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小,以控制流入中間室的氣體,使電子槍室始終保持著超高真空,確保發(fā)射體穩(wěn)定工作。

 

4 高靈敏度X射線譜儀 
至多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時,又可減小樣品對X射線的吸收,實現(xiàn)高靈敏度的分析。

 

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