一、設(shè)備用途

    用于熔煉高熔點金屬/合金，采用熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料，以及真空噴/吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量生產(chǎn)。

二、設(shè)備組成

    主要由真空獲得及測量系統(tǒng)、單輥旋淬條帶制備系統(tǒng)、噴鑄系統(tǒng)、電弧熔煉、吸鑄系統(tǒng)、工作氣路、電控系統(tǒng)及安裝機臺等組成。

三、主要技術(shù)參數(shù)：

1.電弧熔煉技術(shù)數(shù)據(jù)：

電弧熔煉部分：
2.1手動電弧槍升降，手動自由擺動，采用波紋管密封；
2.2重要控制功能整合到控制盒內(nèi)；
2.3熔煉工位（吸鑄工位除外）具有電磁攪拌功能；
2.4機械手可原位翻轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)移小樣品；
2.5無接觸高壓、高頻電弧點火；
2.6雙層水冷真空室；

2.真空甩帶技術(shù)數(shù)據(jù)：

2.1典型的薄片厚度20- 60µm，寬度可在1~ 70mm
2.2坩堝手動調(diào)節(jié)機構(gòu)
2.3銅制輥輪，大速度3000轉(zhuǎn)/min，伺服驅(qū)動，100g以上容量需加水冷
2.4銅輥轉(zhuǎn)軸采用磁流體密封
2.5感應(yīng)熔煉電源功率15kw~ 35kw
2.6設(shè)備配備注射及噴鑄用氬氣罐
2.7坩堝材料可選擇石英/氮化硼/石墨等
2.8 手動傾轉(zhuǎn)澆鑄機構(gòu)            選配
2.9噴鑄裝置及模具              選配
2.10紅外測溫儀                 選配