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簡介：HarrickPlasma公司的等離子清洗機是一種小型化、超清洗設(shè)備。Harrick小型臺式等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。Harrick小型...

簡介：等離子清洗機；主要應(yīng)用1.表面清潔2.表面活化3.鍵合4.去膠5.金屬還原6.簡單刻蝕7.去除表面有機物8.疏水實驗9.鍍膜前處理等

簡介：等離子設(shè)備在半導(dǎo)體、電子材料干式清洗中的應(yīng)用越來越廣泛，如硅晶片的光刻膠剝離、除去有機膜、界面活性化、微細研磨、除去碳化膜等領(lǐng)域，等離子產(chǎn)品都發(fā)揮了積極作用。YAMATO的等離子表面處理設(shè)備除了半...

簡介：我們的石英等離子去膠機氣體暴露在電子區(qū)域時可以形成等離子體。由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放的高能電子組成了氣體等離子或離子。已電離的氣體原子的動能相對較小，除非他們通過電場加速。加速時，他們會釋放足夠的...

簡介：應(yīng)用：芯片封裝，工業(yè)應(yīng)用，醫(yī)學應(yīng)用等，是小尺寸實驗室R&D或小規(guī)模生產(chǎn)的理想選擇。

簡介：應(yīng)用：芯片封裝，工業(yè)應(yīng)用，醫(yī)學應(yīng)用等，是小尺寸實驗室R&D或小規(guī)模生產(chǎn)的理想選擇。

簡介：PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)是一臺臺式微波等離子清洗機設(shè)備。等離子清洗機系統(tǒng)融合了下面的特點，并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到肯定。產(chǎn)品特色負載循環(huán)控制，模擬功率控制處理機存儲水冷底座減少...

簡介：設(shè)備主要規(guī)格電源系統(tǒng)雙微波電源自主研發(fā)與華南理工大學合作功率0~2000W頻率2.45GHz真空系統(tǒng)真空泵KashiyamaNeoDry60E真空管路304不銹鋼

簡介：PT-20-MF是一款中型等離子清洗機,配置豐富且真空腔體里面可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景設(shè)備優(yōu)點?任何材質(zhì)、形狀、尺寸都可以處理?高效均勻的處理效果?自主研發(fā)的操作系統(tǒng)，簡潔智能?處理氣體多為氧氣...

簡介：PT-03-LF是一款小型等離子清洗機,小巧緊湊型的設(shè)計使它能夠放在桌面上運行設(shè)備優(yōu)點?任何材質(zhì)、形狀、尺寸都可以處理?高效均勻的處理效果?自主研發(fā)的操作系統(tǒng)，簡潔智能?處理氣體多為氧氣、氬氣、氮...