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簡介：NISTSRM2100a陶瓷斷裂韌性標(biāo)準(zhǔn)品旨在驗(yàn)證斷裂韌性測(cè)試程序。由一組五個(gè)熱壓氮化硅彎曲試樣組成

簡介：NISTSRM2100b陶瓷斷裂韌性標(biāo)準(zhǔn)品旨在驗(yàn)證斷裂韌性測(cè)試程序。由一組五個(gè)熱壓氮化硅彎曲試樣組成

簡介：NISTSRM2112動(dòng)態(tài)沖擊力驗(yàn)證樣本標(biāo)準(zhǔn)品提供的認(rèn)證值主要用于驗(yàn)證使用配備有儀表的8毫米撞針的夏比機(jī)器動(dòng)態(tài)測(cè)量的最大力

簡介：NISTSRM2113動(dòng)態(tài)沖擊力驗(yàn)證樣本標(biāo)準(zhǔn)品提供的認(rèn)證值主要用于驗(yàn)證使用配備有儀表的8毫米撞針的夏比機(jī)器動(dòng)態(tài)測(cè)量的最大力

簡介：NISTSRM2133Si深度剖面中磷種植標(biāo)準(zhǔn)品旨在用于通過二次離子質(zhì)譜(SIMS)分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量磷的二次離子響應(yīng)。

簡介：NISTSRM2134硅深度剖面標(biāo)準(zhǔn)中砷植入標(biāo)準(zhǔn)品旨在用于通過二次離子質(zhì)譜(SIMS)分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量砷的二次離子響應(yīng)。

簡介：NISTSRM2135cNi/Cr薄膜深度剖面標(biāo)準(zhǔn)品要用于校準(zhǔn)表面分析中的濺射深度標(biāo)度和腐蝕速率。

簡介：NISTSRM2137硅中硼植入深度剖面濃度校準(zhǔn)旨在用于通過二次離子質(zhì)譜(SIMS)分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量硼的二次離子響應(yīng)。

簡介：NISTSRM2139鋅鋁合金標(biāo)準(zhǔn)品旨在用于通過二次離子質(zhì)譜(SIMS)分析技術(shù)校準(zhǔn)對(duì)硅基質(zhì)中微量和痕量硼的二次離子響應(yīng)。

簡介：NISTSRM2141尿素標(biāo)準(zhǔn)品經(jīng)認(rèn)證用于測(cè)定有機(jī)物中氮的微量化學(xué)程序的校準(zhǔn)和標(biāo)準(zhǔn)化。