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簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC10:考夫曼型離子源Gridded系列最小型號(hào)的離子源.適用于集成在小型的真空設(shè)備中,例如預(yù)清洗,離子濺射,離子蝕刻.在1000eV低能量,通Ar氬氣時(shí)...

簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC75:緊湊柵極離子源,離子束直徑14cm,可安裝在8“CF法蘭.適用于中小型腔內(nèi),考夫曼離子源KDC75包含2個(gè)陰極燈絲,其中一個(gè)作為備用,KDC75提...

簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國KRI霍爾離子源eH400低成本設(shè)計(jì)提供高離子電流,霍爾離子源eH400尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng),可以控制較低的離子能量,通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜,預(yù)清洗和低能量離子蝕...

簡(jiǎn)介：霍爾離子源eH提供一套完整的方案包含離子源,電子中和器,電源供應(yīng)器,流量控制器MFC等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中,例如鍍膜機(jī),loadlock,濺射系統(tǒng),卷繞鍍膜機(jī)等

簡(jiǎn)介：離子源廣泛用于離子清洗PC,離子蝕刻IBE,輔助鍍膜IBAD,離子濺射鍍膜IBSD領(lǐng)域,上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

簡(jiǎn)介：上海伯東美國KRI射頻離子源RFICP系列,無需燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵極控制離子束的能量和方向,單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)!射頻源RFICP系列提供完整的套裝,套裝包含離子源本體,電子供應(yīng)器...

簡(jiǎn)介：美國KRI霍爾離子源eH系列緊湊設(shè)計(jì)，高電流低能量寬束型離子源，提供原子等級(jí)的細(xì)微加工能力，霍爾離子源eH可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面，多種型號(hào)滿足科研及工業(yè)、半導(dǎo)體應(yīng)用。

簡(jiǎn)介：上海伯東美國*考夫曼離子源KDC系列,加熱燈絲產(chǎn)生電子,是典型的考夫曼型離子源,增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量,穩(wěn)定的電子流.

簡(jiǎn)介：FIG05離子源不但具有zui小150微米束斑和zui高5keV能量，可以用于深度剖析和ISS。而且FIG05還可以提供*束流的能量小于10eV的低能離子，適用于需要正離子的雙束電荷中和。

簡(jiǎn)介：SE5離子源是一款設(shè)計(jì)緊湊、使用靈活的冷陰極離子源，zui大束流超過45微安，能量范圍從300eV直到5keV。對(duì)于低能離子具有*的束流，使ISE5適于敏感材料的轟擊清潔。